ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的研發(fā)投入，其采用行業前沿的創新技術，包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等。 可應用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數以及一維/二維納米光柵材料結構的表...

　　Mapping系列光譜橢偏儀是全自動高精度Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，配置全自動Mapping運動機構，通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現薄膜全基片的膜厚及光學參數自定義繪制化測量表征。

　　SE-VM是一款高精度快速測量光譜橢偏儀,可實現科研/企業級高精度快速光譜橢偏測量，支持多角度、微光斑、可視化調平系統等高兼容性靈活配置，支持多功能模塊定制化設計。

　　SR-M 針對特定微小區域，可提供微米級的聚焦光斑，同時利用顯微物鏡定位測量點，從而獲取精準位置的厚度表征結果。

　　SR-Mapping反射膜厚儀是超快速薄膜表征儀器，通過分析薄膜表面反射光和薄膜與基底界面反射光相干涉形成的反射光譜，從而測量薄膜的厚度及光學常數。

　　SR-C 緊湊型高精度反射膜厚儀，利用光學干涉原理，通過分析薄膜表面反射光和薄膜與基底界面反射光相干涉形成的反射光譜，快速準確測量薄膜厚度、光學常數等信息。